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吉致电子JEEZ铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光/镜面抛光
产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，停工件表面光滑
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2023-12-22 |
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吉致电子JEEZ金属钼抛光液/激光反射镜抛光液/镜面抛光液
产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工
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2023-12-22 |
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吉致电子JEEZ精密陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液
产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液精密陶瓷抛光液作用:吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液
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2023-09-21 |
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吉致电子陶瓷抛光液/纳米级抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液
精密陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液精密陶瓷抛光液作用:吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷
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2023-09-21 |
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吉致电子碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫
产品分类：吉致·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途
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2023-09-21 |
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吉致电子阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/绒面抛光垫
吉致JEEZ阻尼布抛光垫/碳化硅精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品分类：吉致电子·抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代/绒面抛光垫产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛
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2023-09-21 |
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吉致电子Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代
吉致JEEZ阻尼布抛光垫/碳化硅精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代 产品分类：吉致电子·抛光垫 产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代 产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有
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2023-09-21 |
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吉致JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光
无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液 产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度 吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液
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2023-08-14 |
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