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吉致电子JEEZ氧化铝抛光液/氧化铝研磨液/氧化铝精抛液
无锡吉致电子25年研发生产——氧化铝抛光液，氧化铝研磨液，氧化铝悬浮抛光液，氧化铝粗抛液，氧化铝中抛液，氧化铝精抛液，氧化铝粗磨液，氧化铝中磨液，氧化铝精磨液，二氧化铝抛光液，三氧化二铝抛光液，氧化铝抛光浆料，纳米氧化铝抛光液，微米氧化铝抛光液磨料类型：氧化铝微粉/高纯纳米氧化铝磨料粒径：全粒径可定制
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2023-08-14 |
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吉致JEEZ氧化硅抛光液,硅溶胶抛光液,二氧化硅抛光液
无锡吉致电子25年研发生产——氧化硅抛光液，硅溶胶抛光液，纳米硅溶胶抛光液，纳米氧化硅抛光液，氧化硅悬浮液，硅溶胶悬浮液，硅溶胶粗抛液，氧化硅粗抛液，氧化硅粗磨液，硅溶胶中抛液，氧化硅中抛液，氧化硅中磨液，硅溶胶精抛液，氧化硅精抛液，氧化硅精磨液，硅胶抛光液，Slurry,生产氧化硅抛光液，生产硅溶胶抛光液
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2023-08-14 |
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吉致JEEZ氧化铈抛光液/氧化铈研磨液/稀土抛光液
无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产——氧化铈抛光液，稀土抛光液，纳米氧化铈抛光液，氧化铈粗抛液，氧化铈精抛液磨料类型：氧化铈微粉/高纯纳米氧化铈磨料粒径：全粒径可定制产品特点：吉致电子氧化铈抛光液纯度高，氧化铈含量比重高，分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。产品工艺及用
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2023-08-14 |
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吉致JEEZ金刚石抛光液/金刚石研磨液/钻石抛光液
无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产——钻石抛光液，钻石研磨液，金刚石抛光液，金刚石研磨液，单晶金刚石抛光液，单晶金刚石研磨液，聚晶金刚石抛光液，聚晶金刚石研磨液，多晶金刚石抛光液，多晶金刚石研磨液，Diamind slurry磨料类型：金刚石微粉磨料规格：单晶金刚石/多晶金刚石/类多晶金刚石/纳米级金刚石磨料粒径
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2023-08-14 |
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吉致电子JEEZ晶圆抛光液/磷化铟Inp CMP抛光液
无锡吉致电子25年研发生产——晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液/磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry产品简介：为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMPSlurry组合浆料，适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在磷化铟晶圆抛光应用中提供了可靠的解决方案
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2023-08-14 |
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吉致电子JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业
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2023-08-14 |
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吉致JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面抛光液
无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产——手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光，钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到
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2023-08-14 |
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吉致JEEZ 钨抛光液/W 抛光液/半导体研磨液
无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有
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2023-08-14 |
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